پالش کرنے میں سیریم آکسائیڈ کا مستقبل

معلومات اور آپٹو الیکٹرانکس کے شعبوں میں تیز رفتار ترقی نے کیمیکل مکینیکل پالشنگ (CMP) ٹیکنالوجی کی مسلسل اپ ڈیٹنگ کو فروغ دیا ہے۔سازوسامان اور مواد کے علاوہ، انتہائی اعلی صحت سے متعلق سطحوں کا حصول اعلی کارکردگی والے کھرچنے والے ذرات کے ڈیزائن اور صنعتی پیداوار کے ساتھ ساتھ متعلقہ پالش کرنے والی سلری کی تیاری پر بھی زیادہ انحصار کرتا ہے۔اور سطح کی پروسیسنگ کی درستگی اور کارکردگی کی ضروریات میں مسلسل بہتری کے ساتھ، اعلی کارکردگی پالش کرنے والے مواد کی ضروریات بھی زیادہ سے زیادہ ہوتی جا رہی ہیں۔سیریم ڈائی آکسائیڈ کو مائیکرو الیکٹرانک آلات اور صحت سے متعلق آپٹیکل اجزاء کی سطح کی درستگی کی مشینی میں بڑے پیمانے پر استعمال کیا گیا ہے۔

سیریم آکسائڈ پالشنگ پاؤڈر (VK-Ce01) پالش کرنے والے پاؤڈر میں مضبوط کاٹنے کی صلاحیت، اعلی چمکانے کی کارکردگی، اعلی چمکانے کی درستگی، اچھی پالش کرنے کا معیار، صاف آپریٹنگ ماحول، کم آلودگی، طویل سروس کی زندگی وغیرہ کے فوائد ہیں، اور بڑے پیمانے پر استعمال کیا جاتا ہے۔ آپٹیکل صحت سے متعلق پالش اور CMP، وغیرہ فیلڈ ایک انتہائی اہم پوزیشن پر قبضہ کرتا ہے.

سیریم آکسائیڈ کی بنیادی خصوصیات:

سیریا، جسے سیریم آکسائیڈ بھی کہا جاتا ہے، سیریم کا ایک آکسائیڈ ہے۔اس وقت، سیریم کی والینس +4 ہے، اور کیمیائی فارمولا CeO2 ہے۔خالص پراڈکٹ سفید بھاری پاؤڈر یا کیوبک کرسٹل ہے، اور ناپاک پروڈکٹ ہلکا پیلا یا یہاں تک کہ گلابی سے سرخی مائل بھورا پاؤڈر ہے (کیونکہ اس میں لینتھینم، پراسیوڈیمیم وغیرہ کی مقدار پائی جاتی ہے)۔کمرے کے درجہ حرارت اور دباؤ پر، سیریا سیریم کا ایک مستحکم آکسائیڈ ہے۔Cerium +3 valence Ce2O3 بھی بنا سکتا ہے، جو غیر مستحکم ہے اور O2 کے ساتھ مستحکم CeO2 بنائے گا۔سیریم آکسائیڈ پانی، الکلی اور تیزاب میں قدرے حل پذیر ہے۔کثافت 7.132 g/cm3 ہے، پگھلنے کا نقطہ 2600℃ ہے، اور ابلتا نقطہ 3500℃ ہے۔

سیریم آکسائیڈ کو پالش کرنے کا طریقہ کار

CeO2 ذرات کی سختی زیادہ نہیں ہے۔جیسا کہ نیچے دی گئی جدول میں دکھایا گیا ہے، سیریم آکسائیڈ کی سختی ڈائمنڈ اور ایلومینیم آکسائیڈ سے بہت کم ہے، اور زرکونیم آکسائیڈ اور سلکان آکسائیڈ سے بھی کم ہے، جو فیرک آکسائیڈ کے برابر ہے۔اس لیے صرف میکانکی نقطہ نظر سے کم سختی والے سیریا کے ساتھ سلیکون آکسائیڈ پر مبنی مواد، جیسے سلیکیٹ گلاس، کوارٹج گلاس وغیرہ کو ہٹانا تکنیکی طور پر ممکن نہیں ہے۔تاہم، سیریم آکسائیڈ فی الحال سلکان آکسائیڈ پر مبنی مواد یا یہاں تک کہ سلکان نائٹرائڈ مواد کو پالش کرنے کے لیے ترجیحی پالش پاؤڈر ہے۔یہ دیکھا جا سکتا ہے کہ سیریم آکسائیڈ پالش کرنے کے میکانی اثرات کے علاوہ دیگر اثرات بھی ہوتے ہیں۔ہیرے کی سختی، جو عام طور پر پیسنے اور پالش کرنے والا مواد ہے، عام طور پر CeO2 جالی میں آکسیجن کی خالی جگہ ہوتی ہے، جو اس کی طبعی اور کیمیائی خصوصیات کو تبدیل کرتی ہے اور چمکانے کی خصوصیات پر خاص اثر ڈالتی ہے۔عام طور پر استعمال ہونے والے سیریم آکسائیڈ پالش کرنے والے پاؤڈر میں ایک خاص مقدار میں دیگر نادر زمین کے آکسائیڈ ہوتے ہیں۔Praseodymium oxide (Pr6O11) میں بھی چہرے پر مرکوز کیوبک جالی کا ڈھانچہ ہے، جو پالش کرنے کے لیے موزوں ہے، جبکہ دیگر lanthanide rare Earth oxides میں چمکانے کی کوئی صلاحیت نہیں ہے۔CeO2 کے کرسٹل ڈھانچے کو تبدیل کیے بغیر، یہ ایک خاص حد کے اندر اس کے ساتھ ٹھوس محلول بنا سکتا ہے۔اعلی پاکیزگی والے نینو سیریم آکسائیڈ پالش کرنے والے پاؤڈر (VK-Ce01) کے لیے، سیریم آکسائیڈ (VK-Ce01) کی پاکیزگی جتنی زیادہ ہوگی، پالش کرنے کی صلاحیت اتنی ہی زیادہ ہوگی اور طویل سروس لائف، خاص طور پر سخت شیشے اور کوارٹج آپٹیکل لینز کے لیے طویل وقتسائکلک پالش کرتے وقت، اعلیٰ پاکیزگی والا سیریم آکسائیڈ پالش کرنے والا پاؤڈر (VK-Ce01) استعمال کرنے کا مشورہ دیا جاتا ہے۔

سیریم آکسائڈ پالش پاؤڈر کی درخواست:

سیریم آکسائڈ پالش پاؤڈر (VK-Ce01)، بنیادی طور پر شیشے کی مصنوعات کو چمکانے کے لئے استعمال کیا جاتا ہے، یہ بنیادی طور پر درج ذیل شعبوں میں استعمال ہوتا ہے:

1. شیشے، گلاس لینس پالش؛

2. آپٹیکل لینس، آپٹیکل گلاس، لینس، وغیرہ؛

3. موبائل فون کی سکرین کا گلاس، گھڑی کی سطح (گھڑی کا دروازہ) وغیرہ۔

4. LCD LCD سکرین کے تمام قسم کی نگرانی؛

5. Rhinestones، گرم ہیرے (کارڈز، جینز پر ہیرے)، لائٹنگ بالز (بڑے ہال میں لگژری فانوس)؛

6. کرسٹل دستکاری؛

7. جیڈ کی جزوی پالش

موجودہ سیریم آکسائیڈ پالش کرنے والے مشتقات:

سیریم آکسائیڈ کی سطح کو ایلومینیم کے ساتھ ڈوپ کیا جاتا ہے تاکہ آپٹیکل شیشے کی پالش کو نمایاں طور پر بہتر بنایا جا سکے۔

اربن مائنز ٹیک کے ٹیکنالوجی ریسرچ اینڈ ڈیولپمنٹ ڈیپارٹمنٹ۔لمیٹڈ نے تجویز کیا کہ پالش کرنے والے ذرات کی مرکب اور سطح میں ترمیم CMP پالش کی کارکردگی اور درستگی کو بہتر بنانے کے اہم طریقے اور نقطہ نظر ہیں۔کیونکہ ذرہ کی خصوصیات کو کثیر اجزاء کے عناصر کے مرکب کے ذریعہ ٹیون کیا جا سکتا ہے، اور چمکانے والی سلوری کی بازی استحکام اور چمکانے کی کارکردگی کو سطح میں ترمیم کے ذریعہ بہتر بنایا جا سکتا ہے.TiO2 کے ساتھ ڈوپڈ CeO2 پاؤڈر کی تیاری اور پالش کرنے کی کارکردگی 50% سے زیادہ پالش کرنے کی کارکردگی کو بہتر بنا سکتی ہے، اور اسی وقت، سطح کے نقائص کو بھی 80% تک کم کیا جاتا ہے۔CeO2 ZrO2 اور SiO2 2CeO2 جامع آکسائڈز کا ہم آہنگ پالش اثر؛لہذا، ڈوپڈ سیریا مائیکرو نینو کمپوزٹ آکسائیڈز کی تیاری کی ٹیکنالوجی نئے چمکانے والے مواد کی ترقی اور پالش کرنے کے طریقہ کار کی بحث کے لیے بہت اہمیت کی حامل ہے۔ڈوپنگ کی مقدار کے علاوہ، ترکیب شدہ ذرات میں ڈوپینٹ کی حالت اور تقسیم بھی ان کی سطح کی خصوصیات اور چمکانے کی کارکردگی کو بہت متاثر کرتی ہے۔

ان میں سے، cladding ساخت کے ساتھ چمکانے کے ذرات کی ترکیب زیادہ پرکشش ہے.اس لیے مصنوعی طریقوں اور شرائط کا انتخاب بھی بہت ضروری ہے، خاص طور پر وہ طریقے جو سادہ اور کم خرچ ہوں۔ہائیڈریٹڈ سیریم کاربونیٹ کو بنیادی خام مال کے طور پر استعمال کرتے ہوئے، ایلومینیم ڈوپڈ سیریم آکسائیڈ پالش کرنے والے ذرات گیلے ٹھوس فیز میکانکی کیمیکل طریقہ سے ترکیب کیے گئے تھے۔مکینیکل قوت کے عمل کے تحت، ہائیڈریٹڈ سیریم کاربونیٹ کے بڑے ذرات کو باریک ذرات میں توڑا جا سکتا ہے، جبکہ ایلومینیم نائٹریٹ امونیا کے پانی کے ساتھ رد عمل ظاہر کر کے بے ساختہ کولائیڈل ذرات بناتا ہے۔کولائیڈل ذرات آسانی سے سیریم کاربونیٹ کے ذرات کے ساتھ منسلک ہوتے ہیں، اور خشک ہونے اور کیلکسینیشن کے بعد سیریم آکسائیڈ کی سطح پر ایلومینیم ڈوپنگ حاصل کی جاسکتی ہے۔یہ طریقہ سیریم آکسائیڈ کے ذرات کو ایلومینیم ڈوپنگ کی مختلف مقداروں کے ساتھ ترکیب کرنے کے لیے استعمال کیا گیا تھا، اور ان کی چمکانے کی کارکردگی کو نمایاں کیا گیا تھا۔سیریم آکسائیڈ ذرات کی سطح پر ایلومینیم کی مناسب مقدار شامل کرنے کے بعد، سطح کی صلاحیت کی منفی قدر بڑھ جائے گی، جس کے نتیجے میں کھرچنے والے ذرات کے درمیان فاصلہ بڑھ جائے گا۔زیادہ مضبوط الیکٹرو اسٹیٹک ریپلشن ہے، جو کھرچنے والی معطلی کے استحکام کو بہتر بناتا ہے۔ایک ہی وقت میں، کولمب کشش کے ذریعے کھرچنے والے ذرات اور مثبت چارج شدہ نرم پرت کے درمیان باہمی جذب کو بھی تقویت ملے گی، جو پالش شیشے کی سطح پر کھرچنے والے اور نرم پرت کے درمیان باہمی رابطے کے لیے فائدہ مند ہے، اور اس کو فروغ دیتا ہے۔ پالش کی شرح میں بہتری.